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一种由产生的技术。在真空室内材料的从加热源出来打到被镀物体的表面上。此项技术最先用于生产光学镜片，如航海望远镜等。后延伸到其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等。如手表外壳镀仿金色，机械刀具镀膜，改变加工红硬性。
在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。
真空镀膜技术初现于20世纪30年代，四五十年代开始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面（通常是非金属材料），属于物理气相沉积工艺。因为镀层常为金属薄膜，故也称真空金属化。广义的真空镀膜还包括在金属或非金属材料表面真空蒸镀聚合物等非金属功能性薄膜。在所有被镀材料中，以塑料最为常见，其次，为纸张镀膜。相对于金属、陶瓷、木材等材料，塑料具有来源充足、性能易于调控、加工方便等优势，因此种类繁多的塑料或其他高分子材料作为工程装饰性结构材料，大量应用于汽车、家电、日用包装、工艺装饰等工业领域。但塑料材料大多存在表面硬度不高、外观不够华丽、耐磨性低等缺陷，如在塑料表面蒸镀一层极薄的金属薄膜，即可赋予塑料程亮的金属外观，合适的金属源还可大大增加材料表面耐磨性能，大大拓宽了塑料的装饰性和应用范围。
真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说，真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。[1]
通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。蒸发镀膜设备结构如图1。
蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。
蒸发源有三种类型。①电阻加热源：用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质（图1[蒸发镀膜设备示意图]
）电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料；②高频感应加热源：用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质；③电子束加热源：适用于蒸发温度较高（不低于]）的材料，即用电子束轰击材料使其蒸发。
蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比，具有较高的沉积速率，可镀制单质和不易热分解的化合物膜。
为沉积高纯膜层，可采用分子束外延方法。生长掺杂的GaAlAs单晶层的分子束外延装置如图2[ 分子束外延装置示意图
]。喷射炉中装有分子，在超高真空下当它被加热到一定温度时，炉中元素以束状分子流射向基片。基片被加热到一定温度，沉积在基片上的分子可以徙动，按基片晶格次序生长结晶用可获得所需化学计量比的高纯化合物单晶膜，薄膜最慢生长速度可控制在1单层/秒。通过控制挡板,可精确地做出所需成分和结构的单晶薄膜。分子束外延法广泛用于制造各种光集成器件和各种超晶格结构薄膜。
用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面，沉积在基片上。溅射现象于1870年开始用于镀膜技术，1930年以后由于提高了沉积速率而逐渐用于工业生产。常用的二极溅射设备如图3[ 二
极溅射示意图]。通常将欲沉积的材料制成板材──靶,固定在阴极上。基片置于正对靶面的上,距靶几厘米。系统抽至高真空后充入 10～1帕的气体（通常为氩气），在阴极和阳极间加几千伏电压，两极间即产生辉光放电。放电产生的正离子在电场作用下飞向阴极，与靶表面原子碰撞，受碰撞从靶面逸出的靶原子称为溅射原子,其能量在1至几十电子伏范围。溅射原子在基片表面沉积成膜。与蒸发镀膜不同，溅射镀膜不受膜材熔点的限制,可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔物质。溅射化合物膜可用反应溅射法，即将反应气体 (O、N、HS、CH等)加入Ar气中,反应气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反应生成化合物（如氧化物、氮化物等）而沉积在基片上。沉积绝缘膜可采用高频溅射法。基片装在接地的电极上，绝缘靶装在对面的电极上。高频电源一端接地，一端通过匹配网络和隔直流电容接到装有绝缘靶的电极上。接通高频电源后，高频电压不断改变极性。等离子体中的电子和正离子在电压的正半周和负半周分别打到绝缘靶上。由于电子迁移率高于正离子，绝缘靶表面带负电，在达到动态平衡时，靶处于负的偏置电位，从而使正离子对靶的溅射持续进行。采用磁控溅射可使沉积速率比非磁控溅射提高近一个数量级。
蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，称为离子镀。这种技术是D.麦托克斯于1963年提出的。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。一种离子镀系统如图4[离子镀系统示意图],将基片台作为阴极，外壳作阳极，充入惰性气体（如氩）以产生辉光放电。从蒸发源蒸发的分子通过等离子区时发生电离。正离子被基片台负电压加速打到基片表面。未电离的中性原子（约占蒸发料的95%）也沉积在基片或真空室壁表面。电场对离化的蒸气分子的加速作用（离子能量约几百～几千电子伏）和氩离子对基片的溅射清洗作用，使膜层附着强度大大提高。离子镀工艺综合了蒸发（高沉积速率）与溅射（良好的膜层附着力）工艺的特点，并有很好的绕射性，可为形状复杂的工件镀膜。
金原粲著，杨希光译：《薄膜的基本技术》，科学出版社，北京，1982。（金原粲著：《薄膜の基本技》，京大学出版会，京，1976。）
（纯度：99.9%-99.9999%）
高纯氧化物
一氧化硅、SiO，、HfO?，二硼化铪，，二氧化锆、ZrO2，二氧化钛、TiO2，一氧化钛、TiO，二氧化硅、SiO2，三氧化二钛、Ti2O3，、Ti3O5，五氧化二钽、Ta2O5，五氧化二铌、Nb2O5，三氧化二铝、Al2O3，三氧化二钪、Sc2O3，三氧化二铟、In2O3，二钛酸镨、Pr(TiO3)2，二氧化铈、CeO2，氧化镁、MgO，三氧化钨、WO3，氧化钐、Sm2O3，氧化钕、Nd2O3，氧化铋、Bi2O3，氧化镨、Pr6O11，氧化锑、Sb2O3，氧化钒、V2O5，氧化镍、NiO，氧化锌、ZnO，氧化铁、Fe2O3，氧化铬、Cr2O3，氧化铜、CuO等。
氟化镁、MgF2，氟化镱、YbF3，氟化钇、LaF3，氟化镝、DyF3，氟化钕、NdF3，氟化铒、ErF3，氟化钾、KF，氟化锶、SrF3，氟化钐、SmF3，氟化钠、NaF，氟化钡、BaF2，氟化铈、CeF3，氟化铅等。
高纯金属类
高纯铝,高纯铝丝，高纯铝粒，高纯铝片，高纯铝柱，高纯铜，高纯铜丝，高纯铜片，高纯铜粒，高纯铬，高纯铬粒，高纯铬粉，高纯铬块，铬条，高纯钴，高纯钴粒，高纯金，高纯金丝，高纯金片，高纯金粒，高纯银，高纯银丝，高纯银粒，高纯银片，高纯铂，高纯铂丝，高纯铪，高纯铪粉，高纯铪丝，高纯铪粒，高纯钨，高纯钨粒，高纯钼，高纯钼粒，高纯钼片，高纯硅，高纯单晶硅，高纯多晶硅，高纯锗，高纯锗粒，高纯锰，高纯锰粒，高纯钴，高纯钴粒，高纯铌，高纯锡，高纯锡粒，高纯锡丝，高纯钨，高纯钨粒，高纯锌，高纯锌粒，高纯钒，高纯钒粒，高纯铁，高纯铁粒，高纯铁粉，高纯钛，高纯钛片，高纯钛粒，海面钛,高纯锆，高纯锆丝，海绵锆,碘化锆,高纯锆粒，高纯锆块，高纯碲，高纯碲粒，高纯锗，高纯镍，高纯镍丝，高纯镍片，高纯镍柱，高纯钽，高纯钽片，高纯钽丝，高纯钽粒，高纯镍铬丝，高纯镍铬粒，高纯镧,高纯镨,高纯钆,高纯铈,高纯铽,高纯钬,高纯钇,高纯镱,高纯铥,高纯铼,高纯铑,高纯钯,高纯铱等.
氧化锆氧化钛混合料，氧化锆氧化钽混合料，氧化钛氧化钽混合料，氧化锆氧化钇混合料，氧化钛氧化铌混合料，氧化锆氧化铝混合料，氧化镁氧化铝混合料，氧化铟氧化锡混合料，氧化锡氧化铟混合料，氟化铈氟化钙混合料等混合料
其他化合物
钛酸钡，BaTiO3，钛酸镨，PrTiO3，钛酸锶，SrTiO3，钛酸镧，LaTiO3，硫化锌，ZnS，冰晶石，Na3AlF6，，ZnSe，硫化镉，硫化钼，硫化铜，二硅化钼。
钼片，钼舟、钽片、钨片、钨舟、钨绞丝。
（纯度：99.9%-99.999%）
碳靶（C靶）、镍靶（Ni靶）、钛靶（Ti靶）、锌靶（Zn靶）、铬靶（Cr靶）、镁靶（Mg靶）、铌靶（Nb靶）、锡靶（Sn靶）、铝靶（Al靶）、铟靶（In靶）、铁靶（Fe靶）、锆铝靶（ZrAl靶）、钛铝靶（TiAl靶）、锆靶（Zr靶）、硅靶（Si靶）、铜靶（Cu靶）、钽靶（Ta靶）、锗靶（Ge靶）、银靶（Ag靶）、钴靶（Co靶）、金靶（Au靶）、钆靶（Gd靶）、镧靶（La靶）、钇靶（Y靶）、铈靶（Ce靶）、铪靶（Hf靶）、钼靶（Mo靶）、铁镍靶（FeNi靶）、V靶、W靶、不锈钢靶、镍铁靶、铁钴靶、镍铬靶、铜铟镓靶、铝硅靶NiCr靶等。
2.陶瓷靶材
ITO靶、AZO靶，氧化镁靶、氧化铁靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、硫化镉靶，硫化钼靶，二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，二氧化铪靶，靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶，五氧化二钽靶，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、氟化镁靶，硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶等陶瓷溅射靶材。
1．在真空镀膜机运转正常情况下，开动真空镀膜机时，必须先开水管，工作中应随时注意水压。
2．在离子轰击和蒸发时，应特别注意高压电线接头，不得触动，以防触电。
3．在用电子枪镀膜时，应在钟罩外围上铝板。观察窗的玻璃最好用铅玻璃，观察时应戴上铅玻璃，以防X射线侵害人体。
4．镀制多层介质膜的镀膜间，应安装通风吸尘装置，及时排除有害粉尘。
5．易燃有毒物品要妥善保管，以防失火中毒。
6．酸洗夹具应在通风装置内进行，并要戴橡皮手套。
7．把零件放入酸洗或碱洗槽中时，应轻拿轻放，不得碰撞及溅出。平时酸洗槽盆应加盖。
8．工作完毕应断电、断水。
中文名：氮化钛；
颜色：金色；
硬度：2300HV；
摩擦系数：0.23VSNi；
最高工作温度：580℃；
优点：增加表面硬度、减少摩擦力；可低温涂层，适合低温零件；避免刀口之积屑现象；广泛应用於钢料成型加工。
中文名：氮碳化钛；
颜色：银灰色；
硬度：3300HV；
摩擦系数：0.21VSNi；
最高工作温度：450℃；
优点：高表面硬度表面光滑；避免刀口之积屑现象；适合重切削；适合冲压加工不銹钢。
中文名：铝氮化钛；
颜色：紫黑色；
硬度：3500HV；
摩擦系数：0.35VSNi；
最高工作温度：800℃；
优点：高热稳定性；适合高速、干式切削；最适合硬质合金刀具、车刀片；适合不銹钢钻、铣、冲加工。
中文名：类金刚石；
颜色：黑色；
硬度：2000HV；
摩擦系数：0.15VSNi；
最高工作温度：800℃；
优点：无氢碳膜，有很强的抗粘结性和低摩擦性，适合光盘模具和其他精密模具。[2-3]
中文名：钛铬_纳米晶体；
颜色：银灰色；
硬度：2100HV；
摩擦系数：0.18VSNi；
最高工作温度：700℃；
优点：可低温涂层，韧性好，适合低温零件；适合冲压厚度&1.5mm的钢板。
中文名：铬铝_纳米晶体；
颜色：灰黑色；
硬度：3300HV；
摩擦系数：0.18VSNi；
最高工作温度：1100℃；
优点：高热稳定性；磨擦力低，不沾黏；适合冷热段造、铸造高热稳定性；适合长久在高温环境下使用的汽车零件。
中文名：铬硅_纳米晶体；
颜色：灰黑色；
硬度：3000HV；
摩擦系数：0.16VSNi；
抗氧化温度：1000℃；
优点：膜具高速加工，高光面加工；适合加工铜合金、镁铝合金。
中文名：锆硅_纳米晶体；
颜色：紫黑色；
硬度：3400HV；
摩擦系数：0.22VSNi；
抗氧化温度：850℃；
优点：最适合HSS刀具、丝攻；适合加工钛合金。
中文名：钛硅_纳米晶体；
颜色：黄橙色；
硬度：4300HV；
摩擦系数：0.25VSNi；
抗氧化温度：1000℃；
优点：表面硬度最高；适合重切削与加工不銹钢；可加工高硬度模具钢62HRC。
中文名：白金铝钛_纳米晶体；
颜色：银白色；
硬度：4300HV；
摩擦系数：0.21VSNi；
抗氧化温度：1200℃；
优点：高热稳定性；通用於高速钢与硬质合金刀具高速、干式、连续性切削；可加工高硬度模具钢50HRC。
MedicaWC/C涂层
颜色：黑色；
硬度硬度&17000 HV；
摩擦系数：0.10VSNi；
最高工作温度：450℃；
优点：磨擦力最低，干式金属润滑膜；适合医疗、药品行业无油环境。
CrN-WC/C涂层
颜色：黑色；
硬度&2000 HV；
摩擦系数：0.10VSNi；
最高工作温度：650℃；
优点：解决射出成型脱膜、腐蚀问题；适合汽车、机械零件降低磨擦损耗；适合无油轴承，干式金属润滑膜。
真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜，从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰等许多优于固体材料本身的优越性能，达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。因此真空镀膜技术被誉为最具发展前途的重要技术之一，并已在高技术产业化的发展中展现出诱人的市场前景。这种新兴的真空镀膜技术已在国民经济各个领域得到应用，如航空、航天、电子、信息、机械、石油、化工、环保、军事等领域。
真空蒸发镀膜设备主要用于在经予处理的塑料、陶瓷等制品表面蒸镀金属薄膜（镀铝、铬、锡、不锈钢等金属）、七彩薄仿金膜等，从而获得光亮、美观、；价廉的塑料，陶瓷表面金属化制品。广泛应用于汽车、摩托车灯具、工艺美术、装潢装饰、灯具、家具、玩具、酒瓶盖、化妆品、手机、闹钟、女式鞋后跟等领域。
．中国UV灯网[引用日期]
郑艳彬，姜志刚.DLC膜涂层硬质合金刀具的研究进展[J].硬质合金，2012(02）.
刘志平，王加春，杨育林.类金刚石膜的力学性能及其工具应用[J].工具技术,2005(12).欢迎到九正建材网！
年限：第 9 年
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东莞市伟诚真空电镀材料有限公司成立于1995年，坐落在中国制造业名镇---东莞长安镇，本公司专业生产、销售及代理真空电镀系列耗材、靶材等。我们的主要产品有：真空电镀材、不导电镀材、溅镀靶材、铟丝、锡丝、钨丝、铝丝、真空泵油、扩散泵油、SiO、硫化锌、钨舟、钼片、机械零配件。十多年来，我们一直以一流的产品质量、一流的技术保障、一流的售后服务和一流的企业形象立足于国内外市场，在广大客户中树立了良好的信誉。近年，我们在新工艺、新材料综合开发利用方面不断创新，并取得突出成就。伟诚提供的产品均经国家权威检测机构检测认证，符合欧盟ROHS指令的要求。我们真诚地希望与您携手共进，双赢创未来！
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真空镀黑色能否过耐化妆品测试
应该是真空镀更贵一些了，真空镀的质量会更好一些，而且水镀存在环保的问题，特别有些出口的产品还存在ROHS限制的问题。真空镀从生产过程还是最终产品方面都是环保的，水镀的应用更广一些，目前在很多的领域，真空镀都在逐渐的取代水镀，但是目前还很难完全取代
9条其他回答
镀膜按照不同的类型有很多分类，主要分水电镀和真空电镀。真空电镀按照镀膜原理的不同，分出来溅射镀膜、蒸发镀膜和离子镀膜溅射镀膜和蒸发镀膜又根据不同的设置分了很多。pVD是物理真空镀膜，PCVD是化学物理镀膜。两者都属于离子镀
都属于电镀。电镀包括传统的水电镀和真空电镀。水电镀就是水电镀，真空电镀分为真空蒸镀、磁控溅镀和离子镀。貌似好像还有，不过我知道的主要就这3种
真空镀主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型，它们都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点，但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较高档产品的功能性镀层，例如作为内部屏蔽层使用。 真空蒸镀：在高真空下，通过金属细丝的蒸发和凝结，使金属薄层附著在塑胶表面。
真空蒸镀过程中金属(最常用的铝)的熔融，蒸发仅需几秒钟，整个周期一般不超过15MM，镀层厚度为.
设计真空蒸镀塑料制品应避免大的平坦表面，锐角和锐边。凹凸图案、纹理或拱形表面效果最佳。真空蒸镀很难获得光学平面样制品表面。
不过镀层附着力比水镀差很多。
A9手机的面壳镀铜后镀LOU，共10μ，镀LOU层0.18μ。真空电镀相对于水电镀来讲，表面硬度较低，但污染较小。真空镀不导电
目前水电镀在重工业上应用较多（汽车等），而真空电镀则广泛应用于家用电器、化妆品包装。
如果真空电镀的硬度能达到水电镀的等级，那么水电镀将要消失了。 目前很多手机上的金属外观件，都采用PVD真空离子镀，不仅能够提供漂亮的颜色而且耐磨性很好。不过比较贵，成本较高
真空镀膜的外面一般要上一层保护膜（很少有不上膜的）主要是为了保护铝不被氧化和耐磨，一眼就能看出来，水镀是不导电物体处理成导电体后再电镀，一般要镀好几层金属，镀成的成品你拿起来比原来重很多，而且感觉很凉。真空镀的物体任何物体都可以镀，而水镀一般情况下只能是ABS塑料。真空镀的东西一般在背面或者大孔中是镀不上的。而水镀是背面也能镀上金属，只是不亮
深发塑料真空镀膜厂 揭阳市龙兴塑料真空镀膜厂 揭阳电镀真空镀膜厂 揭阳市榕城区榕江塑料镀膜厂 揭东县炮台龙海玻璃镀膜厂 揭阳市榕城区榕江塑料镀膜厂
真空镀膜的金色通常是先镀银色(镀铝)后喷保护层后再染金色,现在比较好的工艺是UV镀,即在镀铝后再喷上UV漆(专用漆),经紫外光处理后就可以了,这个工艺做出的产品足可以乱真.现在大部分真空镀金就是这个工艺.其他的工艺也可做到,但价格较高,不适用.黑色和灰色也是这个工艺.只不过用的漆颜色不
原理和工艺不同，电镀是基于电化学反应原理，在含有需镀金属离子的溶液中通以直流电，使该金属离子在阴极（工件）获得电子变成金属，沉积在镀件上，即为镀层，真空镀是基于物理气相沉积原理，使需镀金属或氧化物或合金在高真空下高温气化，沉积在镀件上；设备不同，电镀主要设备是直流电源、镀槽等，真空镀主要设备真空镀膜机（包括真空室、真空泵等）；所用原材料不同，电镀主要原材料为各种化工材料和金属材料，真空镀主要原材料为金属、金属化合物及合金；适用范围和用途不同，电镀可以在几乎所有金属和非金属上进行，主要用于金属防护、装饰和导电、耐磨等功能性电镀，真空镀加工对象有限制，例如不能直接在钢铁件上镀，真空镀膜很薄，不像电镀那样厚，但可以镀得电镀做不到的镀层，如金黄色的氮化钛、铝等等，用于耐蚀、耐磨、装饰等场合，真空镀由于受真空室大小的限制，不能镀大型零件，相比之下，电镀受此限制小得多；在环保方面，真空镀比电镀污染小的多
水电镀 是利用电解的原理将导电体铺上一层金属的方法。 除了导电体以外，电镀亦可用于经过特殊处理的塑胶上。 电镀的过程基本如下： 把镀上去的金属接在正极 要被电镀的物件接在负极 正负极以镀上去的金属的正离子组成的电解质溶液相连 通以直流电的电源后，正极的金属会进行氧化(失去电子)，溶液中的正离子则在负极还原(得到电子)成原子并积聚在负极表层。 电镀后被电镀物件的美观性和电流大小有关系，电流越小，被电镀的物件便会越美观；反之则会出现一些不平整的形状。 电镀的主要用途包括防止金属氧化 (如锈蚀) 以及进行装饰。不少硬币的外层亦为电镀。 电镀产生的污水(如失去效用的电解质)是水污染的重要来源。 真空镀vacuum plating真空镀主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型，它们都是采用在真空条件下，通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜，通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层，同时具有速度快附着力好的突出优点，但是价格也较高，可以进行操作的金属类型较少，一般用来作较高档产品的功能性镀层，例如作为内部屏蔽层使用
水镀是把药剂配成水溶液，并在镀槽内配上直流的阴阳极，通上电就可以电镀的叫水镀。真空镀的话是把产品放置在一个真空的容器中，把内面抽成真空，然后再通过通电把相应的金属靶材通电把它击成离子的形式均匀的覆盖在产品的表面的形式叫真空镀，一般可以分为金属与非金属，如果是非金属的话，必须产品表面先用喷涂的方式，在表面喷一层导电的铝膜后才去镀真空镀，还有一种方式是通过塑料的水镀后，镀到铜，或镍，或铬后再进行真空镀。水镀的镀层厚度可以比较厚，真空镀的厚度则没有水镀那么高，真空镀的表面颜色的变化性比水镀要大，什么色泽的比较容易调，而水镀则不行，如果是产品是需要拉丝（访古系列）的话，一般只有水镀才能满足要求，真空镀太薄了就做不成这个样子
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