半导体厂务系统范围有多大
【2007姩3月4日星期日第一次整理】
【2007年3月18日星期日第二次整理】
【2007年11月25日星期日第三次整理】【2009年2月5日星期四第四次整理,不断更新中…】
洁净室内装修工程:(高架地板工程、洁净室隔墙板系统、铝合金龙骨吊顶/ceiling grid、无尘涂装、环氧地坪等)、压差控制系统、ESD防静电等;
b,循环空调系统(包括部分供热与通风系统比如MAU/OAC、AHU、FFU、DDC、FCU、粗、中、高、超高过滤器、化学过滤器etc.、送气风机、排气风机etc.);
c,中央动力,c u:Mechenical(热水、冷冻水、软水、工艺设备冷却水PCW、生产上水、自来水﹑饮用水、一般蒸汽和洁净蒸汽等管路供应系统;锅炉、冷冻机、冷却塔、空压机等厂务设施);--有些fab把中央动力归入cleanroom、而有的FAB确反之把C/R划入机械空调、也有像本公司这样,干脆把CU 和C/R 分开;这些划分都是可以的无所謂对错。
d,Hook up(一次、两次管路系统)、支吊架系统、FOUNDATION 防震机座、粉尘监测智能系统/DMS系统、风淋室、传递窗、层流罩、洁净工作台、洁净洗手器、洁净衣架、洁净电梯、正压洁净楼梯间系统、化学品储存冷库和压缩机etc.;
Bulk Gas:GAS YARD气站CQC(N2/H2/O2/Ar/He/天然气)【包括普通和超纯/精制气体】,压缩空氣(CDA)--有些FAB还将机台用CDA和厂务设备用CDA供应系统分开、呼吸空气供应系统等;
a,超纯水供应系统、热/温纯水供应系统、一次纯水(RO水)供应系統etc.
b,工艺废水处理(酸、碱、含氟排水、slurry/cmp、研磨排液、温排水、纯水回收、一般排水、TMAH显影液、H2O2、硫酸排液、磷酸排液、NH3排液etc. )
c,办公用给排沝系统:饮用水供应、自来水供应、生活污水处理、雨水排放系统etc
a,工厂SCRUBBER:酸、碱、有机VOC、粉尘、一般排气etc.[有些FAB还包括了紧急排烟/事故排风系統]
b,LOCAL SCRUBBER(一般附属于工艺设备):依其原理大概可分成下列几类(1)电热
内容提示:XX 半导体公司厂务系统 TQM 應用研究6522
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